离子植入真空系统中的分子流动
应用程序ID：10011
ION Inclanter评估器应用程序考虑了离子植入系统的设计。离子植入在半导体工业中广泛用于将掺杂剂植入晶片中。
在离子注入机内，在离子源内产生的离子通过电场加速以实现所需的植入物能量。通过分离磁体选择正确的充电状态的离子，其弯曲离子束以确保特定电荷对质量比的离子是到达晶片的唯一一个。离子束的能量剂量和角度是该过程的关键参数。
该应用程序允许用户改变晶片的角度以及除析种的分子量，分散速率和表面温度。还可以调整冷冻和涡轮泵速度。
数量密度，压力，分子通量以及沿着梁线的平均数密度可以可视化。
此模型示例说明了这种类型的应用程序，这些类型将使用以下产品名义上构建：
但是，可能需要额外的产品来完全定义和模拟它。此外，还可以使用以下产品组合使用组件来定义和建模此示例：
COMSOL的组合188金宝搏优惠®建模应用所需的产品取决于若干因素，可能包括边界条件，材料属性，物理界面和部分库。特定功能可能是几种产品的常见问题。要确定产品的正确组合，请查看规范图表并使用免费的评估许可证。这188金宝搏优惠COMSOL销售和支持团队可用于回答您可能对此的任何问题。